价格|苏州|江苏科米克 查看

基本资料

化学品英文名称： nitrogen trifluoride 英文名称： nitrogen fluoride

分子结构：三角锥

键角：102.5°

分子量：71.0019

熔点(101.325kPa)：-206.79℃

沸点(101.325kPa)：-129.0℃

液体密度(-129℃，101.325kPa)：1540kg/m3

气体密度(20℃，101.325kPa)：2.96kg/m3 相对密度(气体，空气=1，20℃，101.325kPa)：2.46

比容(21.1℃，101.325kPa)：0.3371m3/kg

气液容积比(15℃，100kPa)：520L/L

临界温度：-39.3℃

临界压力：4530kPa

临界密度：522kg/m3

临界 压缩系数：0.317

熔化热(-206.79℃，价格，101.325kPa)：5.61kJ/kg

气化热(-129℃，101.325kPa)：163.29kJ/kg

比热容(气体，苏州，25℃，101.325kPa)：Cp=751.68J/(kg·K)

蒸气压(-171℃)：1.333kPa

(-100℃)：470kPa

(-60℃)：2200kPa 粘度(气体，25℃，101.325kPa)：0.0183mPa·S

折射率(气体，25℃)：1.0004416

主要成分：纯品

外观与性状：无色、带霉味的气体。

相对密度(水=1)：1.89(沸点，液体)

溶解性：不溶于水。

主要用途：用作高能燃料。

废弃处置方法：根据国家和地方有关法规的要求处置。或与厂商或制造商联系，确定处置方法。

主要用途

1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。与NF3反应，气瓶，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与**化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料

1.NF3是微电子工业中一种优良的等离子蚀刻气体，厂家，对硅和氮化硅的蚀刻，采用NF3和CF4＋O2的混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，而且对表面无污染。与NF3反应，在瞬间伴随放出大量的热，这就是NF3在高能化学激光器方面大量应用的原理。在高温下，NF3与**化合物反应常伴有性，操作时应十分谨慎。2.用作高能燃料