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急救措施

皮肤接触

脱去污染的衣着，用流动清水冲洗。若有灼伤，就医**。

眼睛接触

立即翻开上下眼睑，用流动清水冲洗15分钟。就医。

吸入

*脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅，呼吸困难时给输氧。呼吸停止时，立即进行人工呼吸。就医。

泄漏处理应急处理

*撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。切断火源。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，高纯，穿防毒服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。漏气容器要妥善处理，修复、检验后再用。

用途

主要用途是用作氟化－氟化气高能化学激光器的氟源，价格，在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分（约25%）可以以激光辐射释放出，进口，所 HF-OF激光器是化学激光器中较有希望的激光器。是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体，对硅和 氮化硅蚀刻，采用比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性，连云港，而且对表面无污染，尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中，具有非常优异的蚀刻速率和选择性，在被蚀刻物表面不留任何残留物，同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术，它的需求量将日益增加。