急救措施
皮肤接触
脱去污染的衣着,用流动清水冲洗。若有灼伤,就医**。
眼睛接触
立即翻开上下眼睑,用流动清水冲洗15分钟。就医。
吸入
*脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅,呼吸困难时给输氧。呼吸停止时,立即进行人工呼吸。就医。
泄漏处理应急处理
*撤离泄漏污染区人员至上风处,并进行隔离,严格限制出入。切断火源。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器,高纯,穿防毒服。尽可能切断泄漏源。合理通风,加速扩散。漏气容器要妥善处理,修复、检验后再用。
用途
主要用途是用作氟化-氟化气高能化学激光器的氟源,价格,在h2-O2 与F2之间反应能的有效部分(约25%)可以以激光辐射释放出,进口,所 HF-OF激光器是化学激光器中较有希望的激光器。是微电子工业中一种优良的等离子 蚀刻气体,对硅和 氮化硅蚀刻,采用比四氟化碳和四氟化碳与 氧气的 混合气体有更高的蚀刻速率和选择性,连云港,而且对表面无污染,尤其是在厚度小于1.5um的集成电路材料的蚀刻中,具有非常优异的蚀刻速率和选择性,在被蚀刻物表面不留任何残留物,同时也是非常良好的清洗剂。随着纳米技术的发展和电子工业大规模的发展技术,它的需求量将日益增加。